GB/T 31351-2014 碳化硅单晶抛光片微管密度无损检测方法

标准详情：

GB/T 31351-2014

国家标准推荐性

中文名称：碳化硅单晶抛光片微管密度无损检测方法
CCS分类：H26
ICS分类：77.040.99
发布日期：2014-12-31
实施日期：2015-09-01
代替标准：
技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
发布部门：国家标准化管理委员会
标准分类：冶金金属材料试验金属材料的其他试验方法

内容简介

国家标准《碳化硅单晶抛光片微管密度无损检测方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了4H晶型和6H晶型碳化硅单晶抛光片的微管密度的无损检测方法。本标准适用于4H晶型和6H晶型碳化硅单晶抛光片经单面抛光或双面抛光后、微管的径向尺寸在一微米至几十微米范围内的微管密度的测量。

起草单位

北京天科合达蓝光半导体有限公司、中国科学院物理研究所、

起草人

陈小龙、郑红军、刘振洲、张玮、郭钰、

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