GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法

标准详情：

GB/T 19922-2005

国家标准推荐性

中文名称：硅片局部平整度非接触式标准测试方法
CCS分类：H17
ICS分类：77.040.01
发布日期：2005-09-19
实施日期：2006-04-01
代替标准：
技术归口：工业和信息化部（电子）
发布部门：工业和信息化部（电子）
标准分类：冶金金属材料试验金属材料试验综合

内容简介

国家标准《硅片局部平整度非接触式标准测试方法》由339-1（工业和信息化部（电子））归口，主管部门为工业和信息化部（电子）。
本标准规定了用电容位移传感法测定硅片表面局部平整度的方法。本标准适用非接触、非破坏性地测量干燥、净洁的半导体硅片表面的局部平整度。适用于直径100 mm及以上、厚度250μm及以上的腐蚀、抛光及外延硅片。

起草单位

洛阳单晶硅有限责任公司、

起草人

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