GB/T 42902-2023 碳化硅外延片表面缺陷的测试激光散射法

标准详情：

GB/T 42902-2023

国家标准推荐性

中文名称：碳化硅外延片表面缺陷的测试激光散射法
CCS分类：H21
ICS分类：77.040
发布日期：2023-08-06
实施日期：2024-03-01
代替标准：
技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
发布部门：国家标准化管理委员会
标准分类：冶金金属材料试验

内容简介

国家标准《碳化硅外延片表面缺陷的测试激光散射法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
本文件描述了激光散射法测试碳化硅外延片表面缺陷的方法。本文件适用于4H-SiC外延片的表面缺陷测试。

起草单位

安徽长飞先进半导体有限公司、安徽芯乐半导体有限公司、浙江芯科半导体有限公司、中国科学院半导体研究所、广东天域半导体股份有限公司、南京国盛电子有限公司、河北普兴电子科技股份有限公司、

起草人

钮应喜、袁松、仇光寅、李京波、杨龙、闫果果、张会娟、刘敏、彭铁坤、袁肇耿、

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