GB/T 34893-2017 微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法
标准详情：
GB/T 34893-2017
国家标准推荐性现行
- 中文名称：微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法
- CCS分类：L55
- ICS分类：31.200
- 发布日期：2017-11-01
- 实施日期：2018-05-01
- 代替标准：
- 技术归口：全国微机电技术标准化技术委员会
- 发布部门：国家标准化管理委员会
- 标准分类：电子学集成电路、微电子学
内容简介
国家标准《微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法》由TC336（全国微机电技术标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了基于光学干涉显微镜获取MEMS微结构表面形貌进行面内长度测量的方法。本标准适用于表面反射率不低于4%，宽深比不低于1:10，且使用光学干涉显微镜能够获取形貌的MEMS微结构。
起草单位
天津大学、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第十三研究所、中机生产力促进中心、南京理工大学、
起草人
胡晓东、郭彤、程红兵、裘安萍、于振毅、李海斌、崔波、朱悦、
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