GB/T 31225-2014 椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法

标准详情：

GB/T 31225-2014

国家标准推荐性

中文名称：椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法
CCS分类：J04
ICS分类：17.040.01
发布日期：2014-09-30
实施日期：2015-04-15
代替标准：
技术归口：全国纳米技术标准化技术委员会
发布部门：中国科学院
标准分类：计量学和测量、物理现象长度和角度测量长度和角度测量综合

内容简介

国家标准《椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法》由TC279（全国纳米技术标准化技术委员会）归口，主管部门为中国科学院。
本标准给出了使用连续变波长、变角度的光谱型椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅层厚度的方法。本标准适用于测试硅基底上厚度均匀、各向同性、10nm~1000nm厚的二氧化硅薄层厚度，其他对测试波长处不透光的基底上单层介电薄膜样品厚度测量可以参考此方法。

起草单位

上海交通大学、纳米技术及应用国家工程研究中心、

起草人

金承钰、李威、何丹农、张冰、梁齐、路庆华、

相近标准

YS/T 839-2012 硅衬底上绝缘体薄膜厚度及折射率的椭圆偏振测试方法
YS/T 14-2015 异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法
YS/T 14-1991 导质外延层和硅夕晶层厚度测量方法
YB/T 4766-2019 耐火材料用工业硅中单质硅和二氧化硅的测定方法
GB/T 14847-2010 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
EJ/T 1141-2002 铀三硅二-铝燃料板包壳厚度测量相敏涡流法
SY 0066-1992 管道防腐层厚度的无损测量方法(磁性法)
SY/T 0066-1999 钢管防腐层厚度的无损测量方法（磁性法）
GB/T 33826-2017 玻璃衬底上纳米薄膜厚度测量触针式轮廓仪法
GB/T 17722-1999 金覆盖层厚度的扫描电镜测量方法

* 特别声明：资源收集自网络或用户上传，版权归原作者所有，如侵犯您的权益，请联系我们处理。

本地下载

纠错