GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶
标准详情:
GB/T 34649-2017
国家标准推荐性现行
- 中文名称:磁控溅射用钌靶
- CCS分类:H68
- ICS分类:77.150.99
- 发布日期:2017-09-29
- 实施日期:2018-04-01
- 代替标准:
- 技术归口:全国有色金属标准化技术委员会
- 发布部门:中国有色金属工业协会
- 标准分类:冶金有色金属产品其他有色金属产品
内容简介
国家标准《磁控溅射用钌靶》由TC243(全国有色金属标准化技术委员会)归口,TC243SC5(全国有色金属标准化技术委员会贵金属分会)执行,主管部门为中国有色金属工业协会。
本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶(以下简称钌靶)。
起草单位
有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院、
起草人
罗俊锋、丁照崇、万小勇、刘书芹、贺昕、滕海涛、李勇军、向磊、熊晓东、王庄、高岩、
相近标准
YS/T 1068-2015 制备钌靶用钌粉
YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
20230079-T-604 金属及其他无机覆盖层 工程用直流磁控溅射银镀层 镀层附着力的测量
20201743-T-606 三氯化钌
20210819-T-610 钼及钼合金管靶
YS/T 1207-2017 氧化铝基钌料中钌量化学分析方法 钌量的测定 氢还原重量法
GB/T 39158-2020 平面显示用高纯铜旋转管靶
SY/T 6446-2000 油气井射孔弹检验用质量控制靶制作规范
HG/T 3679-2000 电解槽金属阳极涂层用三氯化钌
* 特别声明:资源收集自网络或用户上传,版权归原作者所有,如侵犯您的权益,请联系我们处理。