SJ/T 10481-1994 硅外延层电阻率的面接触三探针方法
标准详情：
SJ/T 10481-1994
行业标准-SJ 电子推荐性现行
- 中文名称：硅外延层电阻率的面接触三探针方法
- CCS分类：
- ICS分类：
- 发布日期：1994-04-11
- 实施日期：1994-10-01
- 代替标准：
- 行业分类：
- 技术归口：
- 发布部门：电子工业部
- 标准分类：SJ 电子
内容简介
行业标准《硅外延层电阻率的面接触三探针方法》，主管部门为电子工业部。
相近标准
GB/T 14141-2009 硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法
YS/T 14-2015 异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法
20211957-T-469 硅外延用三氯氢硅
YS/T 14-1991 导质外延层和硅夕晶层厚度测量方法
YS/T 23-1992 硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法
YS/T 23-2016 硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法
YS/T 15-1991 硅外延层和扩散层厚度测定磨角染色法
YS/T 15-2015 硅外延层和扩散层厚度测定 磨角染色法
YS/T 1059-2015 硅外延用三氯氢硅中总碳的测定 气相色谱法
* 特别声明：资源收集自网络或用户上传，版权归原作者所有，如侵犯您的权益，请联系我们处理。
- 标准质量：
下载说明
- ① 欢迎分享本站未收录或质量优于本站的标准，期待。
② 仅供网友学习交流，若侵犯了您的权益，请联系我们予以删除。