YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
标准详情：
YS/T 719-2009
行业标准-YS 有色金属推荐性现行
- 中文名称：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
- CCS分类：H63
- ICS分类：77.150.99
- 发布日期：2009-12-04
- 实施日期：2010-06-01
- 代替标准：
- 行业分类：
- 技术归口：全国有色金属标准化技术委员会
- 发布部门：工业和信息化部
- 标准分类：冶金有色金属产品其他有色金属产品YS 有色金属
内容简介
行业标准《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报，主管部门为工业和信息化部。
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
相近标准
YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶
GB/T 39158-2020 平面显示用高纯铜旋转管靶
SJ/T 10032-1991 SF--1303型硅靶视象管
DB35/T 1873-2019 热喷涂旋转硅靶材通用技术条件
* 特别声明：资源收集自网络或用户上传，版权归原作者所有，如侵犯您的权益，请联系我们处理。
- 标准质量：
下载说明
- ① 欢迎分享本站未收录或质量优于本站的标准，期待。
② 仅供网友学习交流，若侵犯了您的权益，请联系我们予以删除。