T/ZSA 38-2020 SiC晶片的残余应力检测方法

标准详情:

T/ZSA 38-2020

团体标准推荐性

内容简介

本文件规定了SiC晶片内部残余应力的光学无损检测方法
本文件适用于晶片厚度适当,对波长400-700nm的可见光范围内测试光的透过率在30%以上的SiC晶片
本文件规定了SiC晶片内部残余应力的光学无损检测方法。本文件适用于晶片厚度适当,对波长400-700nm的可见光范围内测试光的透过率在30%以上的SiC晶片。

起草单位

中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟、北京聚睿众邦科技有限公司、北京航空航天大学、北京天科合达半导体股份有限公司、北京三平泰克科技有限责任公司。

起草人

苏飞、闫方亮、彭同华、佘宗静、刘春俊、赵宁、陆敏、郑红军、陈鹏、林雪如、刘祎晨。

* 特别声明:资源收集自网络或用户上传,版权归原作者所有,如侵犯您的权益,请联系我们处理。

「在线纠错」

「相关推荐」