T/GVS 003-2021 真空表面处理工艺用离子源
内容简介
本文件规定了真空表面处理工艺常用离子源的术语和定义、分类、使用条件、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存
本文件适用于在真空环境下用于表面处理工艺的常用离子源（以下简称离子源）
规定了真空表面处理工艺常用离子源的术语和定义、分类、使用条件、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。适用于在真空环境下用于表面处理工艺的常用离子源（以下简称离子源）。
起草单位
中山市博顿光电科技有限公司、广东省中山市质量技术监督标准与编码所、佛山市博顿光电科技有限公司、南京茂莱光学科技股份有限公司、江苏曙光光电有限公司、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、同济大学、中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司、暨南大学、中国科学院上海技术物理研究所、中国科学院大连化学物理研究所、深圳市海目星激光智能装备股份有限公司、深圳市杰普特光电股份有限公司、烟台睿创微纳技术股份有限公司、珠海光库科技股份有限公司、广东振华科技股份有限公司、广东腾胜真空技术工程有限公司、成都兴南科技有限公司、湘潭宏大真空技术股份有限公司、成都南光机器有限公司、成都西沃克真空科技有限公司、上海嘉森真空科技有限公司、四川四盛真空设备有限公司、中山市北京理工大学研究院、佛山市南海区长光智能制造研究院、佛山市南海区广工大数控装备协同创新研究院、岭南师范学院、大恒新纪元科技股份有限公司、江苏北方湖光光电有限公司、南京波长光电科技股份有限公司、南京英田光学工程股份有限公司、润坤(上海)光学科技有限公司、沈阳仪表科学研究院有限公司、大鼎光学薄膜（中山）有限公司、中山市众盈光学有限公司、河源市众拓光电科技有限公司、中山凯旋真空科技股份有限公司。
起草人
冀鸣、叶俊文、刘伟基、宋治平、陈建华、孙倩倩、谭鑫、王占山、邵立伟、杨海东、孙桂红、张振厚、武国梁、陈刚、邓淞文、朱刚毅、王华清、闪雷雷、焦宏飞、王银河、唐乾隆、李全民、周子元、魏爱清、高虹、李进、王勇、李小林、黄翔鄂、谢伟广、杨淑爱、黄立、易洪波、吴秋生、林秀刚、赵刚、江斌、贾楠、梁辰、赵崇光、王启佳、梁永恒、田灿鑫、聂鹏、李晓刚、潘丽珍。
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