内容简介
本规范由中华人民共和国住房和城乡建设部第530号公告发布，自2015年5月1日起实施。其中，第４．２．８、６．１．３（９）、６．１．６（３）、６．２．８（３）、８．１．１、８．２．１（２、３、５）、８．２．５（３）、８．３．１（２、３）、８．３．２（２）、８．６．４、９．１．３、９．３．４、９．４．３、９．５．２、１０．１．３、１０．３．４、１０．３．６、１０．３．９、１１．１．６、１１．２．３、１２．２．５条（款）为强制性条文，必须严格执行。本规范适用于采用三氯氢硅氢还原法的新建、扩建和改建多晶硅工厂的工程设计，也适用于硅烷歧化法多晶硅厂中三氯氢硅合成、四氯化硅氢化和氯硅烷提纯的工程设计。
本规范适用于采用三氯氢硅氢还原法的新建、扩建和改建多晶硅工厂的工程设计，也适用于硅烷歧化法多晶硅厂中三氯氢硅合成、四氯化硅氢化和硅烷提纯的工程设计。