GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

标准详情：

GB/T 24578-2009

国家标准推荐性

中文名称：硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
CCS分类：H80
ICS分类：29.045
发布日期：2009-10-30
实施日期：2010-06-01
代替标准：被GB/T 24578-2015全部代替
技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
发布部门：国家标准化管理委员会
标准分类：电气工程半导体材料

内容简介

国家标准《硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了硅片表面金属沾污的全反射X 光荧光光谱测试方法,本方法使用单色X 光源全反射X 光荧光光谱的方法定量测定硅单晶抛光衬底表面层的元素面密度。本标准适用于N 型和P型硅单晶抛光片、外延片等镜面抛光的硅片,尤其适用于清洗后硅片自然氧化层,或经化学方法生长的氧化层中沾污元素的面密度测定。

起草单位

有研半导体材料股份有限公司、万向硅峰电子有限公司、

起草人

孙燕、李俊峰、张静、翟富义、楼春兰、卢立延、

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