GB/T 41652-2022 刻蚀机用硅电极及硅环

标准详情：

GB/T 41652-2022

国家标准推荐性

中文名称：刻蚀机用硅电极及硅环
CCS分类：H82
ICS分类：29.045
发布日期：2022-07-11
实施日期：2023-02-01
代替标准：
技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
发布部门：国家标准化管理委员会
标准分类：电气工程半导体材料

内容简介

国家标准《刻蚀机用硅电极及硅环》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。本文件适用于p拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200mm~450mm的硅电极及硅环。

起草单位

有研半导体硅材料股份公司、新美光（苏州）半导体科技有限公司、山东有研半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司、

起草人

库黎明、孙燕、夏秋良、潘金平、闫志瑞、张果虎、

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