GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法

标准详情：

GB/T 24580-2009

国家标准推荐性

中文名称：重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
CCS分类：H80
ICS分类：29.045
发布日期：2009-10-30
实施日期：2010-06-01
代替标准：
技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
发布部门：国家标准化管理委员会
标准分类：电气工程半导体材料

内容简介

国家标准《重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱测试方法。本标准适用于二次离子质谱法(SIMS)对重掺n型硅衬底单晶体材料中痕量硼沾污(总量)的测试。

起草单位

信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所、

起草人

马农农、何友琴、丁丽、

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